Использование электронно-лучевой литографии (electron-beam lithography, EBL) по отношению к специальным чувствительным материалам является одним из основных методов производства в современных нанотехнологиях. Когда размеры элементов материалов со сложной структурой (метаматериалов) уменьшается и переходит с макроуровня на наноуровень, до уровня отдельных молекул и атомов, свойства материала, такие, […]
-
Марио и Соник в Сочи: вперед за победой
Разработчики из SEGA снова радуют поклон...
-
Samsung принудительно превратит в «кирпичи» все Galaxy Note 7
Эпопея с самовоспламеняющимися смартфона...
-
С какими проблемами могут столкнуться владельцы техники Apple
Перечень неисправностей техники Apple, к...
-
Вышла финальная версия macOS Catalina
Компания Apple выпустила финальную верси...
-
Ремонт мобильных телефонов
Мобильные устройства в современном мире ...
-
Созданы ячейки новой магнитной памяти, способные переключаться с рекордно высокой скоростью при помощи импульсов света
Группа исследователей из университета Ми...
-
Файловая система APFS в iOS 10.3 значительно повысила производительность iPhone и iPad
На этой неделе Apple выпустила первую бе...
-
Intel Curie будет использоваться в качестве базы для носимых устройств
Во время проведения очередного симпозиум...